1957年 日新電機株式会社として電子線照射装置の開発に着手
1962年 電子線照射装置の1号機(2MV 3mA)を納入
1969年 自己シールド式の300kV 30mA 電子線照射装置を完成
1970年 日新電機株式会社と米国ハイボルテージエンジニアリング社の合弁にて「日新ハイボルテージ株式会社」誕生
1971年 日新ハイボルテージ社製電子線照射装置1号機(300kV 25mA)を納入
1983年 日新電機株式会社の100%出資会社となる
1988年 アメリカに「NHV AMERICA,INC.」を設立
1989年 世界最大級の5MV 30mA 電子線照射装置の開発に成功
1999年 「日新エレクトロンサービス株式会社」を設立(ラジエ工業株式会社との合弁)し、照射サービス事業に本格参入
2003年 事業の再構築を目的として日新ハイボルテージ株式会社及び日新エレクトロンサービス株式会社を統合し、
「株式会社NHVコーポレーション」を設立
総合力をより高め、さらなる事業拡大発展を図る
2004年 中国上海市に駐在員事務所設立
2005年 中国上海市に「日新馳威高能電機(上海)有限公司」を設立
2008年 佐賀県鳥栖市に「九州EBセンター」を設立
2009年 「日新パルス電子株式会社」(旧パルス電子技術株式会社)を完全子会社化
2010年 エネルギー環境機器事業を日新パルス電子株式会社へ移管
2011年 中国上海市に「日新馳威輻照技術(上海)有限公司」を設立